Translation examples
Кроме того, одним из источников ГХБД было признано плазменное травление с использованием алюминия в отрасли по производству полупроводников (US EPA, 2000).
Moreover, aluminium plasma etching in the semiconductor manufacture was recognised as an HCBD source (US EPA, 2000).
a.1. установки и материалы для плазменного травления, химического осаждения паров (ХОП), литографии, шаблонов для литографии, шаблонов и фоторезистов;
a.l. Equipment and materials for plasma etch, chemical vapor deposition (CVD), lithography, mask lithography, masks, and photoresists.