Translation for "substraatille" to english

Substraatille

• on the substrate
• to the substrate

Translation examples

on the substrate

Bolding sanoo, että yleisimmin käytetty musteet teollisuuden membraanikytkimien ovat liuotinmusteet, ensisijaisesti polyesteristä tai joskus vinyyli- hartsia, riippuen substraatista käytetään.
Bolding says that the most commonly used inks in the industry for membrane switches are solvent inks, primarily polyester or sometimes vinyl resin based, depending on the substrate being used.

Anti-sormenjälki pinnoite kone (AF päällystyskoneen) kutsutaan myös hydrofobinen kalvo tai anti-sormenjälki metallointia laitteet, on tallettaa orgaanisen fluoridi asettuu substraatille käyttämällä tyhjiö pinnoite teknologia ja tehdä pinnan alustan vedenpitävä, öljy todiste, anti-sormenjälki,...
The anti-fingerprint coating machine (AF coating machine) is also called hydrophobic film or anti-fingerprint metallizing equipment, is to deposit the organic fluoride material on the substrate by using the vacuum coating technology and make the surface of the substrate waterproof, oil proof,...

Pinnoitteen Machine Kuvaus Anti-sormenjälki pinnoite kone (AF päällystyskoneen) kutsutaan myös hydrofobinen kalvo tai anti-sormenjälki metallointia laitteet, on tallettaa orgaanisen fluoridi asettuu substraatille käyttämällä tyhjiö pinnoite teknologia ja tehdä pinnan alustan vedenpitävä, öljy todiste, anti-sormenjälki, antifouling, jne.
The anti-fingerprint coating machine (AF coating machine) is also called hydrophobic film or anti-fingerprint metallizing equipment, is to deposit the organic fluoride material on the substrate by using the vacuum coating technology and make the surface of the substrate waterproof, oil proof, anti-fingerprint, antifouling, etc.

Yleisesti ottaen sputtering target muodostuu pääasiassa tavoite tyhjä, takaisin ja muualla, mikä on nopea kohde tyhjä ion palkki pommittaminen kohde materiaalia, keskeinen osa kuuluu sputtering tavoite sputtering prosessi, tavoite tyhjä ion samaisuuden pinta atomien kuparilla katodipölyynnystä talletettu substraatti ja lentää sähköinen elokuva koska puhtautensa; metalli on yleensä pehmeä ja katodipölyynnystä tavoitteet on asennettava erityinen kone täyttää sputterointiprosessi kone sisäinen korkea jännite ja korkean alipaineen ympäristön vuoksi, takaisin kiinteät ja tarve saada hyvä sähkö- ja lämmönjohtavuus.
In general, sputtering target is mainly composed of a target blank, back and other parts, which is of high speed target blank ion beam bombardment of a target material, the core part belongs to the sputtering target, in sputtering process, target blank by the ion impinges upon the surface atoms by sputtering deposited on the substrate and fly out into electronic film due to the high purity; metal is generally soft, and sputtering targets need to install a special machine to complete in the sputtering process, the machine internal for high voltage and high vacuum environment, therefore, back mainly to fixed target, and the need to have good electrical and thermal conductivity.