Translation for "kaasufaasipinnoitusta" to english

Kaasufaasipinnoitusta

• vapor deposition
• gas phase coating

Translation examples

vapor deposition

Voidaan käyttää sputteroimalla, plasmaetsaus, kemiallista kaasufaasipinnoitusta (CVD) pinnoite, ja fysikaalista kaasufaasipinnoitusta (PVD) pinnoite, elektro-kemiallisia reaktioita, ja monet muut tutkimuksen toimintoja.
May be used for sputtering, plasma etching, chemical vapor deposition (CVD) coating, and physical vapor deposition (PVD) coating, electro-chemical reactions, and many other research functions.

Sivuston selittää prosessi, joka tunnetaan fysikaalista kaasufaasipinnoitusta (PVD), ja se sisältää tiedot tyypilliset pinnat.
Site explains process, known as Physical Vapor Deposition (PVD), and includes details of typical coatings.

Laser muotit ovat tyypillisesti rakennettu galliumarsenidi (GaAs) substraatteja käyttämällä prosesseja, kuten molekyyli-palkki epitaxy tai metalli-orgaaninen kemiallinen-kaasufaasipinnoitusta.
Laser dies are typically built on gallium arsenide (GaAs) substrates using processes such as molecular-beam epitaxy or metal-organic chemical-vapor deposition.

Veeco aikoo tarjota ennennäkemättömän teknologian kehityksen uusimman sukupolven metallin kemiallista kaasufaasipinnoitusta (MOCVD) järjestelmät, asiakkaiden koulutus ja maailmanluokan palvelu ja tuki.
Veeco intends to provide an unprecedented level of technology development on latest-generation metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) systems, customer training, and world class service and support.

Tällä menetelmällä voidaan luokitella muotoPVD, joka tarkoittaa fysikaalista kaasufaasipinnoitusta, ja sopiifabricating laadukkaita ohutkalvot kanssa paksuudet suuruusluokkaa nanometriälasi, muovi, kalvot, metallit, ja lähes minkä tahansa muun materiaalin. ominaisuudet
This method can classified as a form of PVD, which stands for physical vapor deposition, and is suitable for fabricating high-quality thin films

Ne ovat usein hyödynnetään safiirien uuneissa, korkea-lämpötila uunin, lääketieteen suojaus, puolijohde kenttä, PVD (fysikaalista kaasufaasipinnoitusta) laitteita, öljy lanka hakkuiden alalla ja muilla aloilla.
They are often utilized in sapphire growth furnaces, high-temperature furnace, medical shielding, semiconductor field, PVD (physical vapor deposition) equipment, oil wire logging field and other fields.

Joka perustuu DC-magnetronisputteroinnilla, metallin kemiallista kaasufaasipinnoitusta ja äskettäin kehitetty sooli-geeli-teknologian kehitys kypsä, ITO-kalvo on sovellettu monilla aloilla, teollistumisen ja kestävä kehitys, kypsyys.
Based on the DC magnetron sputtering, metal organic chemical vapor deposition and newly developed sol-gel technology development mature, ITO film has been applied in many fields, industrialization and sustainable

Hyväksymällä uudentyyppinen fyysinen kaasufaasipinnoitusta (PVD) menetelmä, tämä volframi tavoite, erityisesti, voidaan soveltaa puolijohdeteollisuudessa, litteä näyttö (TFT-LCD), auringon energia-alan, lasi-pinnoite teollisuus (muk
Adopting a new type of physical vapor deposition (PVD) method, this tungsten target, specifically, can be applied in the semiconductor industry, flat display (TFT-LCD), solar energy industry, glass-coating industry (including architectural glass, automotive glass, optical film glass, etc.), surface engineering (decoration and tooling), magneto-optical recording media, micro-electronics, automotive lighting and decorative coating, etc.