Translation for "ionisuihkua" to english

Ionisuihkua

• ion beam
• ion jets

Translation examples

ion beam

Käytetyt tutkimusmenetelmät perustuvat eri säteilylajeihin, enimmäkseen röntgensäteisiin ja ionisuihkuihin. Laskennallinen materiaalifysiikka
The methods are based on different radiation species, mostly X-rays and ion beams.

”Suurenergisessä hiukkassuihkuviimeistelyssä” käytetään reaktiivisia atomiplasmoja (RAP) tai ionisuihkuja materiaalin poistamiseksi valikoivasti.
‘Energetic particle beam finishing’ uses Reactive Atom Plasmas (RAP) or ion-beams to selectively remove material.

Suunnittelee ja valmistaa suurjännitelähteistä, käytetään fokusoitua elektronisuihkua ja keskittyi ionisuihkun sovelluksia.
Designs and manufactures high voltage power supplies, used for focused electron beam and focused ion beam applications.

Mikroskoopin markkinat ovat jakautuneet niin Optiset mikroskoopit, elektronimikroskoopit, skannaus koetin mikroskoopit ja keskittyi ionisuihkun mikroskopia.
Microscope markets are segmented as optical microscopes, electron microscopes, scanning probe microscopes and focused ion beam microscopy.

Helios NanoLab DualBeam on keskittynyt ionisuihkun / pyyhkäisyelektronimikroskoopp
The Helios NanoLab DualBeam is a focused ion beam/scanning electron microscope (FIB/SEM) that will be used to explore new processes for the fabrication of functional nanostructures and nanodevices.

Valmistaja räätälöidyt laitteet ja komponentit alipainetta varten laser, sputteroimalla, ionisuihkua, ja muut etch ja Pinnoitustekniikat.
Manufacturer of custom designed vacuum systems and components for laser deposition, sputtering, ion beam, and other etch and deposition techniques.

FEI: n uraauurtava johtajuutta ionisuihkun ja elektronisuihku tekniikat ja menetelmät ovat hyvin sovitettu antaa tutkijoille tietoa jopa haastavin näytteitä.
"FEI's pioneering leadership in ion beam and electron beam techniques and methodologies are well matched to give researchers information from even the most challenging samples.

Laskeuman aikana kalvo materiaali olisi pommitetaan elektronisuihkulla ja ionisuihkun tai vastuuvapauden, kuten ammunta tavoitteita, niin suosittu materiaali on nimeltään kohde.
During the deposition process, the membrane material should be bombarded by electron beam and ion beam or discharge, like shooting targets, so popular this kind of material is called target.

Nämä tilaukset ovat Ionfab300 Plus, ionisuihkun etch työkalu, ja toinen FlexAL ® Atomikerroskasvatus työkalu, jolloin järjestelmien määrä tilata Oxford Instruments kolmeentoista yhteensä.
These orders are for an Ionfab300 Plus, ion beam etch tool, and a second FlexAL® atomic layer deposition tool, bringing the number of systems ordered from Oxford Instruments to thirteen in total.

Tiloissa on saatavilla kaikki tärkeimmät tarvittavat teknologiat, kuten optinen litografia ja nanolitografia, CMOS ja BiCMOS, kuiva- ja märkäetsaus, käsittely kohdistetun ionisuihkun avulla, mikropakkaus, piikiekkojen liitäntä, ohutkalvojen prosessointi ja epitaksiaalinen kasvatus.
All necessary main process technologies are available, including optical and nanolithography, CMOS and BiCMOS, dry and wet etching, focused ion beam milling, micropackaging, wafer bonding, thin film processing and epitaxial deposition.