Translation examples
Ultra-fine patterning/photo resists as photo-acid generators and surfactants
a) нанесение сверхтонкого рельефа/фоторезиста в качестве фотокислотных генераторов и ПАВ;
A dry etching process is applied to high-end ultra-fine patterns of semiconductor photo masks.
Для формирования сверхтонкого рисунка при изготовлении фотошаблонов для наиболее совершенной полупроводниковой аппаратуры применяется процесс сухого травления.